53

第

1

章

第

2

章

第

3

章

第

4

章

第

5

章

第

6

章

第

7

章

第

8

章

第

9

章

第

10

章

第

11

章

第

12

章

▲

 照射野形成系（X線）

側方から観察

ビーム孔から観察

①

②

②

③

④

⑤

⑥

真空

電子線

モニタ線量計

▲

 照射野形成系（電子線）

ツーブスによってビー

ムの広がりを抑える

⑤

側方から観察

ビーム孔から観察

②

③

④

真空

モニタ線量計

①

電子線

①

入射ビーム
電子銃から加速器に入射された電子線は，偏向
マグネットを通過することにより，下向きに偏
向される（直径：数mm程度）。

②

ターゲット通過後
電子線がターゲットを通過することにより，X
線強度分布が広がる（面内の中心部は高く，周
辺部は低い）。

③

プライマリコリメータ通過後
最大照射野より外側のX線ビームは遮蔽され
る。

④

フラットニングフィルタ通過後
フラットニングフィルタを通過することによ
り，面内のX線強度分布が均一になる。

⑤

セカンダリコリメータ通過後
必要な照射野の大きさに合わせて，X線ビーム
が遮蔽される。

⑥

MLC通過後

標的の形状に合わせてX線ビームが遮蔽され
る。

①

入射ビーム
電子銃から加速器に入射された電子線は，偏向
マグネットを通過することにより下向きに偏向
される（直径：数mm程度）。

②

プライマリコリメータ通過後
電子線ビームは変化しない。

③

スキャッタリングフォイル通過後
スキャッタリングフォイルを通過することによ
り，電子線ビームは散乱され，面内の電子線ビ
ームの分布は均一になる。

④

セカンダリコリメータ通過後
必要な照射野の大きさに合わせて，電子線ビー
ムが遮蔽される。

⑤

患者コリメータ通過後
標的の形状に合わせて，電子線ビームが遮蔽さ
れる。